Description
En este trabajo se presenta la creación de nanoestructuras moduladas artificialmente con dureza aumentada utilizando la evaporación por arco de vacío cuya formación de la interfaz del recubrimiento se basa en los procesos de implantación del material evaporado del cátodo en el substrato y no en la difusión térmica. Esto fue posible sobre la base de la implementación de la tecnología de implantación de altas dosis de iones obtenidos de un plasma con energías de 10-30[keV] mediante el equipo JUPITER (Joint Universal Plasma and Ion Technologies Experimental Reactor) en un entorno de vapor de metal.
